Ricerche su processi tecnologici per la realizzazione di sensori e attuatori utilizzando tecnologie a film sottile
Laboratorio di Tecnologie Microelettroniche
Descrizione
Tipologia
Chimico, Elettronico, Nanotecnologico, Strumentale
Attività
5%
95%
0%
Responsabile
| Nome | Struttura | |
| Giampiero De Cesare | giampiero.decesare@uniroma1.it | DIPARTIMENTO DI INGEGNERIA DELL'INFORMAZIONE, ELETTRONICA E TELECOMUNICAZIONI |
ERC scientific sector
PE7_1, PE8_1
Dipartimento o centro ospitante
Personale docente e di ricerca
Personale tecnico
| Nome | Struttura | |
| Luca Balestreri | luca.balestreri@uniroma1.it | DIPARTIMENTO DI INGEGNERIA DELL'INFORMAZIONE, ELETTRONICA E TELECOMUNICAZIONI |
| Luca Sipone | luca.sipone@uniroma1.it | DIPARTIMENTO DI INGEGNERIA DELL'INFORMAZIONE, ELETTRONICA E TELECOMUNICAZIONI |
KET
Micro/nano electronics & photonics
Strumenti e attrezzature
| Nome | Descrizione | Servizi Offerti | Tipologia |
| 08015 - Bombole | Ossigeno | Bombole | |
| 08016 - Bombole | CF4 | Bombole | |
| 08017 - Bombole | Ar | Bombole | |
| 08018 - Frigoriferi, congelatori e celle frigo | Frigorifero JOINTLAB | ||
| 08019 - Apparecchiature in pressione (compressori, bombole, ecc) | Linea Aria Compressa prodotta da compressore "oil free" a 10 bar accoppiato a sistema di deumidificazione/essicazione dell'aria compressa. | Apparecchiature in pressione (compressori, bombole, ecc) | |
| 08021 - Apparecchiature in pressione (compressori, bombole, ecc) | Linea Azoto alimentato da generatore di azoto con produzione del gas a 9 bar. | Apparecchiature in pressione (compressori, bombole, ecc) | |
| Reactive Ion etching | Sistema di attacco chimico-fisico al plasma. Sistema di miscelazione dei gas reattivi. N.2 camere di processo. Impianto di raffreddamento per il supporto del campione. | Attrezzature principali per la ricerca (piccole/medie/grandi attrezzature) | |
| Sputtering | Sistema di deposizione al plasma con gas argon. N. 3 target materiali per deposizione. Predisposizione per il raffreddamento del supporto del campione. Il sistema è dotato di un sistema di generazione di ultra vuoto. | Attrezzature principali per la ricerca (piccole/medie/grandi attrezzature) | |
| Generatore RF e sistema autoregolante per il plasma | Impianto di generazione del segnale RF (600W max) per la generazione del plasma per il sistema RIE ed per il sistema Sputtering | Attrezzature principali per la ricerca (piccole/medie/grandi attrezzature) | |
| Chiller | Sistema di raffreddamento del liquido refrigerante usato per gli impianti : RIE, SPUTTER, GENERATORE RF, EVAPORATORE TERMICO | Frigoriferi, congelatori e celle frigo | |
| Evaporatore Termico Balzer | Evaporatore termico per la deposizione in fase vapore di film sottili. Il sistema è dotato di un sistema di generazione di ultra vuoto (sistema bistadio composto da pompa da vuoto rotativa e pompa da vuoto turbomolecolare). | Attrezzature principali per la ricerca (piccole/medie/grandi attrezzature) | |
| N.2 linee di medio vuoto con attacchi dislocati nei vari ambienti del laboratorio | Apparecchiature in pressione (compressori, bombole, ecc) |
Regolamento del laboratorio:
Altre Informazioni
Realizzazione e caratterizzazione di dispositivi a film sottili per applicazioni di elettronica a larga area e sensoristica. Esso si articola su diversi locali che ospitano la Strumentazione: Sistema PECVD in UHV per la deposizione di silicio amorfo e silicio carbonio amorfo. Laboratorio depolverizzato con: sistemi di deposizione di film sottili per evaporazione e per sputtering. Sistema RIE; una camera gialla per fotolitografia con fotoplotter e allineatore di maschere. Banchi per misure ottiche (efficienza quantica, assorbimento) ed elettriche (C-V f T, I-V, transienti). Tool di simulazione: ORCAD, COMSOL Multiphysics, CAM 350, AUTOCAD, DIFFIN.
Responsabile tecnico
| Nome | Struttura | |
| Rocco Crescenzi | rocco.crescenzi@uniroma1.it | DIPARTIMENTO DI INGEGNERIA DELL'INFORMAZIONE, ELETTRONICA E TELECOMUNICAZIONI |