Il Laboratorio EMC2-Nano del Dipartimento di Ingegneria Astronautica, Elettrica ed Energetica (DIAEE) dell'Università degli Studi di Roma "La Sapienza" si trova in Via delle Sette Sale 12B, Roma, Italia, vicino alla Chiesa di S. Pietro in Vincoli . Il Lab è stato istituito nel 2006 per promuovere la ricerca scientifica e supportare le attività di apprendimento EMC. La Prof.ssa Maria Sabrina Sarto è Direttore del Laboratorio dal 2006. Il Laboratorio, inizialmente fondato per elaborare nanomateriali e nanocompositi per lo sviluppo di dispositivi per applicazioni EMC, è ora dotato di strumenti per la caratterizzazione meccanica ed elettrica completa dei materiali e la caratterizzazione elettromeccanica di piezoresistivi sensori/dispositivi. Le apparecchiature disponibili consentono prove nella gamma di frequenza da DC a 67 GHz. Il laboratorio è inoltre dotato di microscopie per l'imaging ottico e la lavorazione dei materiali e dei dispositivi prodotti. Molte attività di ricerca, svolte nell'EMC Lab, sono legate a programmi di ricerca finanziati da istituzioni, istituti di ricerca o industrie nazionali e internazionali. Il Laboratorio sostiene inoltre esercitazioni per diverse classi di Compatibilità Elettromagnetica ed Elettrotecnica di diversi corsi di ingegneria (Ingegneria Elettrica, Ingegneria Aerospaziale, Ingegneria delle Nanotecnologie).

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The EMC2-Nano Laboratory of the Department of Astronautical, Electrical and Energy Engineering (DIAEE) of the University of Rome "La Sapienza" is located in Via delle Sette Sale 12B, Rome, Italy, close to the Church of S. Pietro in Vincoli. The Lab was established in 2006 to promote scientific research and support EMC learning activities. Prof. Maria Sabrina Sarto has been the laboratory Director since 2006. The Lab, initially founded to process nanomaterials and nanocomposite for the development of devices for EMC applications, is now provided with instruments for full mechanical and electrical characterization of materials and elctromechanical characterization of piezorestive sensors/devices. The available equipment allows tests in the frequency range from DC to 67 GHz. The lab is also equipped with microscopies for optical imaging and machining of the produced materials and devices. Many research activities, carried out in the EMC Lab are related to research programs financed by national and international institutions, research institutes or industries. Moreover, the Lab supports exercitations for several classes of Electromagnetic Compatibility and Electrotechnics of different engineering courses (Electrical Engineering, Aerospace Engineering, Nanotechnology Engineering).

Attività didattica: 
5
Attività ricerca: 
90
Attività servizio: 
5
Personale docente e di ricerca: 
hossein.cheraghibidsorkhi@uniroma1.it
alessandrogiuseppe.daloia@uniroma1.it
giovanni.debellis@uniroma1.it
marco.fortunato@uniroma1.it
fabrizio.marra@uniroma1.it
alessio.tamburrano@uniroma1.it
Personale tecnico: 
fabrizio.marra@uniroma1.it
Responsabile tecnico : 
fabrizio.marra@uniroma1.it
KET: 
Nanotechnologies
Strumentazioni: 
Dual platen grinder/polisher
Dual Range Analytical balance
Magnetic stirring hot-plate
High shear mixer
Mechanical overhead stirrer with torque control
Vacuum-pressure diaphragm pump
Forced air circulation laboratory oven
Ductless fume hood with two filtration columns
Binocular Stereo Microscope
Optical microscope
Optical microscope 5Mpx digital camera
Digital ThermohygroMeter
Ultrasonic tip horn processor (sonotrode)
Dual column mechanical testing machine
10 N Static load cell
500 N Static load Cell
Static Clip-on extensometer
Three/four-point bending test fixture
Wedge action grips
Screw Side Action Grips
Microprobe station
High frequency Coaxial GSG Probes
Ultrasonic bath
Four-point collinear probing station
Source measure unit
Nano Voltmeter
Electrometer/High resistance meter
DC and AC Current source
Kit Serigrafia
Stampanti 3D
LaserCutter
Dual platen grinder-polisher
Dual Range Analytical balance
Magnetic stirring hot-plate
High shear mixer
Mechanical overhead stirrer with torque control
Vacuum-pressure diaphragm pumpl
Forced air circulation laboratory oven
Ductless fume hood with two filtration columns
Binocular Stereo Microscope
Optical microscope
digital camera
Digital ThermohygroMeter
Ultrasonic tip horn processor
Dual column mechanical testing machine
10 N Static load cell
10 kN Static load cell
3D
laser
kitSerigrafia
Ubicazione: 
L005
L033
Altre Informazioni: 

Caratterizzazione elettrica ed elettromagnetica dei materiali: - Misurazioni con sonda a quattro punti - Caratterizzazione DC e RF di dispositivi a livello di wafer fino a 200 mm - Valutazione della resistività dell'insulto a materiali altamente conduttivi Lavorazione e lavorazione dei materiali - Dispersione/disagglomerazione ad ultrasuoni - Elaborazione di nanocompositi a base di termoindurenti e termoplastici - Rettifica, lucidatura, foratura, taglio di precisione di diverse classi di materiali Prove meccaniche ed elettromeccaniche - Piegatura a tre/quattro punti - Prove di trazione/compressione - Caratterizzazione elettromeccanica di materiali piezoresistivi Microscopia ottica Misure EC/TDS di soluzioni e sospensioni.

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Electrical and EM characterization of materials: - Four-point probe measurements - DC and RF characterization of wafer-level devices up to 200mm - Evaluation of the resistivity of insulting to highly conducting materials Materials processing and machining - Ultrasonic dispersion/disagglomeration - Processing of both themosets- and thermoplastics-based nanocomposites - Grinding, polishing, drilling, precision cutting of different classes of materials Mechanical and electromechanical tests - Three/Four-point bending - Tensile/compressive tests - Electromechanical characterization of piezoresistive materials Optical microscopy EC/TDS measurements of solutions and suspensions

Responsabile: 
mariasabrina.sarto@uniroma1.it
Chimico
Nanotecnologico
Plastici stampaggio/taglio
Prove materiali
Strumentale

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